第203章 追光二期光源长稳测试

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间的表现。
    一小时丶两小时丶三小时……中午十二点,「追光二期」已经连续稳定运行了三小时四十二分钟,功率稳定度始终维持在97.9%到98.1%之间。
    「长稳测试重新开始计时。」金秉洙正式宣布,「目标:连续168小时,稳定度不低于97.5%。」
    陈醒终于微微松了口气。他拍了拍金秉洙的肩膀:「金博士,这里交给你了。控制算法要继续优化,每八小时给我一份稳定性报告。」
    「明白。」金秉洙犹豫了一下,还是问道,「陈总,您那个『原位诊断』和『主动补偿』的思路……是怎麽想到的?这完全超出了常规的工程思维。」
    陈醒沉默了几秒,看着实验室里那些重新投入工作的年轻身影,轻声说:「因为我见过太多『完美设计』在现实面前崩溃。有时候,接受不完美,学会与缺陷共处,反而能走得更远。」
    他转身离开实验室时,窗外阳光正烈。
    在返回专车的路上,陈醒的手机震动。是周明发来的加密信息:
    「欧罗巴代表团今日下午将与工信部进行第二轮闭门磋商。我方消息源透露,他们此行的一个重要议题是『建立针对新兴技术标准的第三方认证体系』。另:林薇总已安全抵达宝岛,正按计划与目标接触。」
    陈醒快速回覆:「继续密切关注。林薇那边有任何进展立即通知我。」
    他坐进车里,闭目养神。脑海里却不由自主地浮现出「深红路线图」中的另一个节点,关于EUV整机集成的下一个挑战:光源与光刻机主体的耦合测试。那将需要更精密的控制丶更稳定的性能丶以及……更强大的抗风险能力。
    今天这场「带电作业」式的抢修,不过是漫长征途中的一次小规模遭遇战。真正的硬仗,还在后面。
    而此刻在华夏芯谷的实验室里,章晴正盯着最新一批长稳测试数据,眉头微皱。在他的良率建模软体中,系统自动标注出了一个异常点,在上午十点零七分,EUV输出光谱中出现了一个极其微弱丶持续仅0.2秒的异常峰,波长为13.52nm,与标准的13.5nm有轻微偏移。
    这个偏移小到几乎可以忽略不计,连实时监控系统都没有报警。但章晴的模型显示,如果这种偏移在特定工艺条件下出现,可能会导致光刻胶曝光时的线宽偏差放大三倍。
    他犹豫了一下,是现在就报告,还是等收集更多数据?
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